Psicometria contemporânea: compreendendo os Modelos Rasch

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Descrição do Produto

Editora Casa do Psicólogo
Ano de publicação: 2015
1ª Edição
Autores: Hudson F. Golino, Cristiano M. A. Gomes, Amanda Amantes e Geide Coelho
ISBN: 978-85-8040-598-9
416 páginas

Esta é a primeira obra em Português dedicada exclusivamente aos modelos psicométricos de Rasch. O objetivo é funcionar como um manual para estudantes de vários níveis, desde a iniciação científica até o doutorado, bem como para pesquisadores e profissionais interessados no tema. O livro foi planejado e elaborado de modo a ajudar qualquer pessoa a aproveitar as potencialidades dos modelos psicométricos de Rasch, sem nenhum pré-requisito. Queremos que ele seja útil tanto para aqueles que nunca tiveram qualquer contato anterior com o tema quanto para aqueles que já contam com um conhecimento intermediário ou avançado.

Psicometria contemporânea: compreendendo os Modelos Rasch

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Detalhes

Parte I. Conceitos fundamentais dos modelos rasch; Capítulo 1. Teoria da Medida e o Modelo Rasch; Capítulo 2. Aprendendo a ler a expressão de invariância dos parâmetros; Capítulo 3. Avançando na compreensão da invariância de parâmetros: Probabilidade e suas características; Parte II. Principais Modelos Rasch; Capítulo 4. O Modelo Logístico Simples de Rasch para dados dicotômicos; Capítulo 5. Modelos politômicos; Capítulo 6. Ajuste das respostas ao Modelo Rasch; Capítulo 7. Modelos Rasch Estendidos: Apresentando o pacote eRm; Parte III. Aplicações dos Modelos Rasch; Capítulo 8; Estudo da Versão Portuguesa do EPQ-R: Uma aplicação do Modelo Rasch; Capítulo 9. Investigando estágios de desenvolvimento do raciocínio indutivo usando a análise fatorial confirmatória, o Modelo Logístico Simples de Rasch e o modelo de teste logístico linear (Rasch Estendido); Capítulo 10. Uso do modelo Rating Scale na construção de uma escala para avaliar traços de psicopatia: Uma ilustração metodológica; Capítulo 11. A Medida de Habilidades Cognitivas Amplas da Bateria de Fatores Cognitivos de Alta Ordem (BaFaCAlO): Empregando o Modelo Rasch Bifatorial; Capítulo 12. Considerações sobre a medida de traços latentes na educação.

Informação Adicional

ISBN 978-85-8040-598-9
Autor Hudson F. Golino, Cristiano M. A. Gomes, Amanda Amantes e Geide Coelho
Qtde. de Páginas 416

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